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(CVD)化学气相沉积技术及应用 | 方寸达科技

发布人:深圳方寸达科技有限公司

发布日期:2025/1/16 15:52:57

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)是一种广泛应用于材料科学与工程的薄膜制备技术。其基本原理是通过在高温条件下将气态前驱体引入反应室中,经过化学反应后,在基底表面沉积出固态材料薄膜。CVD技术的核心是通过气相反应生成固态沉积物,并且可以精确控制薄膜的厚度、组成及结构。

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