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Parylene镀膜的加工流程

1. 前处理

为了确保派瑞林镀膜的附着力，通常需要对被镀物体表面进行预处理。常见的预处理方法包括：

• 清洁：去除表面的油污、灰尘、氧化层等杂质。
• 化学刻蚀：对表面进行微观处理，提高膜层的附着力。
• 干燥：彻底干燥工件，以防止表面残留水分影响膜层质量。

2. 蒸发与传输

Parylene镀膜采用的主要技术是化学气相沉积（CVD）工艺，具体步骤如下：

2.1 蒸发

派瑞林原料通常是Parylene二聚体（Parylene dimer），它具有低熔点和低挥发性。在真空环境下，Parylene二聚体通过加热蒸发成气体状态。此过程一般在温度为150-200°C的加热炉中进行。

2.2 气化与裂解

蒸发后的Parylene二聚体进入反应室，通过加热裂解成单体（Parylene monomer）。通常在550°C左右的温度下，二聚体会发生裂解反应，转化为可以沉积的单体气体。

2.3 传输至沉积表面

Parylene单体气体会通过管道进入沉积腔室，在这一过程中，气体被引导到待涂物体表面。由于Parylene的气化温度较低，膜层的沉积能够在较低温度下进行，从而避免了对基材的热损害。

2.4 沉积成膜

当Parylene单体气体接触到基材表面时，发生聚合反应，形成薄膜。由于聚合是通过气相反应进行的，因此派瑞林膜能够均匀地覆盖在复杂形状的物体表面，包括内腔、缝隙等难以接触的地方。Parylene膜的厚度一般为几微米到几十微米不等，具体厚度可根据需要调整。

3. 后处理

沉积过程完成后，通常需要进行后处理以保证膜层的质量。常见的后处理步骤包括：

• 固化：虽然Parylene膜在沉积时已经完成了聚合反应，但通常需要在较低温度下进行固化，确保薄膜的致密性和稳定性。
• 质量检测：通过显微镜检查膜层的厚度、均匀性，确保膜层没有缺陷，符合使用要求。