底物多肽AKT/SKG SUBSTRATE
英文名称:RPRAATF-NH2
CAS号:312752-00-4
分子式:C36H60N14O8
分子量:816.95
EINECS号:
Mol文件:Mol File
底物多肽AKT/SKG SUBSTRATE 性质
| 密度 | 1.477±0.14 g/cm3(Temp: 25 °C; Press: 760 Torr)(predicted) |
|---|---|
| 储存条件 | -20°C |
| 形态 | lyophilized |
| 酸度系数(pKa) | 13.287±0.46(predicted) |
| 序列 | Arg-Pro-Arg-Ala-Ala-Thr-Phe-NH2 |
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产品介绍：
中文名称：606341
英文名称：Akt Substrate
CAS：312752-00-4
纯度：95% or 98% HPLC
包装信息：1mg；5mg；10mg；50mg；100mg,1g or according to customer's detail requirement.
备注：供应各种美容肽、科研用肽、多肽API、研发用药物肽杂质
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CAS：312752-00-4
纯度：95% or 98% HPLC
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备注：提供氨基酸分析方法开发，氨基酸质量研究用杂质；多肽仿制药工艺开发注册申报、多肽新药开发服务。供应各种美容肽、科研用肽、多肽API、研发用药物肽杂质、氨基酸杂质
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产品介绍：
中文名称：底物多肽Akt/SKG substrate
英文名称：Akt Substrate
CAS：312752-00-4
纯度：98%HPLC
包装信息：1mg;10mg;100mg
备注：研发级
