硅化钛新闻专题

在目前广泛研究的金属硅化物（如：TiSi2、NiSi、CoSi2、WSi2、TaSi2、MoSi2）中，硅化钛（TiSi2）具有非常理想的特性：高的导电性，高的选择性，好的热稳定性，对Si好的吸附性，好的工艺适应性和对硅连接参数的低干扰。因此，在集成电路器件中，硅化钛被广泛应用于金属氧化物半导体（MOS），金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）和动态随机存储器（DRAM）的门、源/漏极、互联和欧姆接触的制造当中。