氟化镁新闻专题

氟化镁晶体是一种非常重要的光功能晶体材料，本文将介绍利用它制作氟化镁薄膜的方法以及用途。

氟化镁是镀膜材料的一种，氟化镁晶体(MgF2)属于四方晶系，熔点为1255℃，硬度高，机械性能好，化学性能稳定，不易潮解和腐蚀，光学性能方面其主要特点是在真空紫外波段具有较高的透过率(170nm透过率仍在80%以上)，被广泛应用于光纤通信，军工领域及各种光学元件。

氟化镁能增加电解质的表面张力，这对减少铝的再溶解损失，促进电解质中的碳渣分离起到有益的作用；所以MgF2间接地起了提高电解质导电性的作用，MgF2在这方面的作用比氟化钙更大些。

氟化镁是一种无色四方晶体或粉末，无味，难溶于水和醇，微溶于稀酸，溶于硝酸。在电光下加热呈弱紫色荧光，其晶体有良好的偏振作用，特别适于紫外线和红外光谱。有毒性。

氟化镁纯度受镁盐影响很大，使用纯度低的镁盐(碳酸镁、氧化镁)生 产氟化镁的主含量一般仅能达到75％，只能满足电解铝用添加剂、冶炼金属镁助熔剂用要求。如要满足光学透镜、荧光材料使用要求，就需使用高纯度的镁盐，而两种氟化镁指标相差极大。目前，急需寻找一种新的镁盐，以解决高纯度镁盐价格高带来的氟化镁价格高地问题。碳酸镁法制备氟化镁工艺过程(以菱镁矿为原料)：1)将氢氟酸加入菱镁矿粉浆液中，搅拌反应一段时间，得到氟化镁浆液；逸出的气体处理后放空。2)将氟化镁浆液过滤，滤渣经洗涤、干燥，得到氟化镁产品；滤液部分用于矿粉浆化，部分送处理槽用稀碳酸镁中和处理，达标后排放。