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三(二甲胺基)硅烷新闻专题

三(二甲胺基)硅烷的特性与危害
三(二甲胺基)硅烷的特性与危害
三(二甲胺基)硅烷可在电子工业中,作为气相沉积CVD薄膜技术中的前驱物使用。

2024-03-27
三(二甲胺基)硅烷的制备
三(二甲胺基)硅烷的制备
相关的研究表明,三(二甲胺基)硅烷作为前驱体源不仅具有较好的稳定性、较高的蒸汽压,而且表现出了相当高的反应性,所以这种有机硅源成了目前ALD方法沉积SiO2研究的热点。

2022-10-14