2-(벤조일록시메틸)벤조산

그림문자(GHS)

• 그림문자(GHS)

  

• 신호 어

  Warning

• 유해·위험 문구

  H315：피부에 자극을 일으킴

  H319：눈에 심한 자극을 일으킴

  H335：호흡 자극성을 일으킬 수 있음

• 예방조치문구

  P261：분진·흄·가스·미스트·증기·...·스프레이의 흡입을 피하시오.

  P264：취급 후에는 손을 철저히 씻으시오.

  P264：취급 후에는 손을 철저히 씻으시오.

  P271：옥외 또는 환기가 잘 되는 곳에서만 취급하시오.

  P280：보호장갑/보호의/보안경/안면보호구를 착용하시오.

  P302+P352：피부에 묻으면 다량의 물로 씻으시오.

  P305+P351+P338：눈에 묻으면 몇 분간 물로 조심해서 씻으시오. 가능하면 콘택트렌즈를 제거하시오. 계속 씻으시오.

2-(벤조일록시메틸)벤조산 화학적 특성, 용도, 생산

• 용도

  2-(Benzoyloxymethyl)benzoic acid can be used to synthesize:
  
  • 2-(Benzoyloxymethyl)benzoyl chloride (BMBC) by reacting with oxalyl chloride. BMBC intermediate is utilized for the preparation of dimethyl 2-(benzoyloxymethyl)benzoylphosphonate by treating with trimethyl phosphite.
  • 2-Benzoyloxymethylbenzoic acid 4-nitrophenyl ester by reaction with 4-nitrophenol via 2-benzoyloxymethylbenzoyl chloride formation.
  • 2-[2-(Benzoyloxymethyl)benzamido]acetamide by treating with glycinamide and followed by addition of PCl₃.
  
  

2-(벤조일록시메틸)벤조산 준비 용품 및 원자재

2-(벤조일록시메틸)벤조산 공급 업체

Global(13)Suppliers