3-클로로-4-메틸벤젠술폰산

그림문자(GHS)

• 그림문자(GHS)

  

• 신호 어

  Danger

• 유해·위험 문구

  H314：피부에 심한 화상과 눈에 손상을 일으킴

  H335：호흡 자극성을 일으킬 수 있음

• 예방조치문구

  P260：분진·흄·가스·미스트·증기·...·스프레이를 흡입하지 마시오.

  P264：취급 후에는 손을 철저히 씻으시오.

  P264：취급 후에는 손을 철저히 씻으시오.

  P280：보호장갑/보호의/보안경/안면보호구를 착용하시오.

  P301+P330+P331：삼켰다면 입을 씻어내시오. 토하게 하려 하지 마시오.

  P303+P361+P353：피부(또는 머리카락)에 묻으면 오염된 모든 의복은 벗거나 제거하시오 피부를 물로 씻으시오/샤워하시오.

  P304+P340：흡입하면 신선한 공기가 있는 곳으로 옮기고 호흡하기 쉬운 자세로 안정을 취하시오.

  P305+P351+P338：눈에 묻으면 몇 분간 물로 조심해서 씻으시오. 가능하면 콘택트렌즈를 제거하시오. 계속 씻으시오.

  P310：즉시 의료기관(의사)의 진찰을 받으시오. 삼켰다면 즉시 의료기관(의사)의 도움을 받으시오.

  P321：(…) 처치를 하시오.

  P363：다시 사용전 오염된 의류는 세척하시오.

  P405：밀봉하여 저장하시오.

  P501：...에 내용물 / 용기를 폐기 하시오.

3-클로로-4-메틸벤젠술폰산 화학적 특성, 용도, 생산

• 생산 방법

  The production of 3-Chloro-4-methylbenzenesulfonic Acid is from toluene by sulfonation with anhydrous sulfuric acid, followed by chlorination with gaseous chlorine.

3-클로로-4-메틸벤젠술폰산 준비 용품 및 원자재

3-클로로-4-메틸벤젠술폰산 공급 업체

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