테트라키스[트리스(디메틸아미노)포스포라닐리데나미노]포스포늄염화물

그림문자(GHS)

• 그림문자(GHS)

  

• 신호 어

  Warning

• 유해·위험 문구

  H315：피부에 자극을 일으킴

  H319：눈에 심한 자극을 일으킴

  H335：호흡 자극성을 일으킬 수 있음

• 예방조치문구

  P261：분진·흄·가스·미스트·증기·...·스프레이의 흡입을 피하시오.

  P264：취급 후에는 손을 철저히 씻으시오.

  P264：취급 후에는 손을 철저히 씻으시오.

  P271：옥외 또는 환기가 잘 되는 곳에서만 취급하시오.

  P280：보호장갑/보호의/보안경/안면보호구를 착용하시오.

  P302+P352：피부에 묻으면 다량의 물로 씻으시오.

  P305+P351+P338：눈에 묻으면 몇 분간 물로 조심해서 씻으시오. 가능하면 콘택트렌즈를 제거하시오. 계속 씻으시오.

테트라키스[트리스(디메틸아미노)포스포라닐리데나미노]포스포늄염화물 화학적 특성, 용도, 생산

• 용도

  Tetrakis[tris(dimethylamino)phosphoranylidenamino]phosphonium chloride can be used:
  
  • As a lipophilic additive in the pH-responsive polymers and solvent-processible polymer membranes.
  • To prepare tetrakis[tris(dimethylamino)phosphoranylidenamino] phosphonium hydroxide, which acts as a basic catalyst for the ring-opening polymerization of siloxanes.
  
  

테트라키스[트리스(디메틸아미노)포스포라닐리데나미노]포스포늄염화물 공급 업체

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