トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート

危険有害性情報のコード(GHS)

• 絵表示(GHS)

  

• 注意喚起語

  Warning

• 危険有害性情報

  H315：皮膚刺激

  H319：強い眼刺激

  H335：呼吸器への刺激のおそれ

• 注意書き

  P261：粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーの吸入を避ける こと。

  P264：取扱い後は皮膚をよく洗うこと。

  P264：取扱い後は手や顔をよく洗うこと。

  P271：屋外または換気の良い場所でのみ使用すること。

  P280：保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。

  P302+P352：皮膚に付着した場合：多量の水と石鹸で洗うこと。

  P305+P351+P338：眼に入った場合：水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。

トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート 価格

トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート 化学特性,用途語,生産方法

• 外観

  白色、結晶～結晶性粉末

• 解説

  光照射により酸を発生する化合物．リソグラフィーにおける化学増幅型レジストプロセスで使用され，ベース樹脂に混入される．露光で発生した酸は，酸触媒連鎖反応を起こし，レジスト感度が向上する．代表的な光酸発生剤としてオニウム塩(オニウム化合物の項を参照)が知られている．

• 用途

  有機合成原料。

• 使用

  TPS-tfs can be used as photoacid generators for the preparation of a bilayer system based nanoporous template which can be potentially used in sensor applications. It can also be used to form a blend with polyfluorene-co-benzothiadiazole for the fabrication of organic light emitting diodes (OLEDs).

• 一般的な説明

  Triphenylsulfonium triflate (TPS-tf) is a photo-acid generator which can be incorporated in conjugated polymers to enhance the luminescence and reduce the operating voltage. The performance efficiency of the fabricated device is increased by improving the mobility of charge carriers.

トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート 上流と下流の製品情報

トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート 生産企業

Global(84)Suppliers

トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート スペクトルデータ(IR)

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