理化性质 用途 合成方法
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四氟化锗

理化性质 用途 合成方法
四氟化锗,7783-58-6,结构式
四氟化锗
  • CAS号:7783-58-6
  • 英文名:GERMANIUM(IV) FLUORIDE
  • 中文名:四氟化锗
  • CBNumber:CB7721287
  • 分子式:F4Ge
  • 分子量:148.63
  • MOL File:7783-58-6.mol
四氟化锗化学性质
  • 熔点 :−36.5 °C(lit.)
  • 沸点 :-36,5°C
  • 密度 :2.126 g/mL at 0 °C(lit.)
  • 溶解度 :reacts with H2O
  • 形态 :colorless gas
  • 颜色 :colorless
  • 比重 :2.126
  • 水溶解性 :soluble H2O [CRC10]
  • 水解敏感性 :8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
  • Merck :13,4423
  • CAS 数据库 :7783-58-6(CAS DataBase Reference)
  • EPA化学物质信息 :Germane, tetrafluoro- (7783-58-6)
安全信息
  • 危险品标志 :C,T
  • 危险类别码 :34
  • 安全说明 :26-36/37/39-45
  • 危险品运输编号 :UN 3304 2.3
  • WGK Germany :3
  • F :21
  • TSCA :Yes
  • 危险等级 :2.3

四氟化锗性质、用途与生产工艺

  • 理化性质 四氟化锗（GeF4）是一种锗的氟化物，分子量为148.63，无色、辛辣大蒜气味气体，空气中遇水产生大量白烟。常态下四氟化锗性质稳定，在水中发生水解，生成GeO2和H2GeF6。3GeF4+2H2O→GeO2+2H2GeF6。与无水氯化铝反应，交换了卤素之后生成四氯化锗。完全干燥的四氟化锗气体，不侵蚀玻璃，但能腐蚀汞和润滑脂。四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体，可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。
  • 用途 四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体，可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。四氟化锗在化学工业中还可用于合成剂。
  • 合成方法 (1)把氧化锗与过量的氟化钙及浓硫酸加热。 (2)六氟锗酸钡的热分解。 BaGeF6→BaF2+GeF4 把生成的气体用液体二硫化碳冷却到-112℃，除去挥发性杂质。
  • 用途  近来，已结合乙硅烷气体将四氟化锗用于直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。锗和硅纳米晶体可发出强烈的可见光，因其在光电器件中的潜在应用价值而倍受关注。
四氟化锗上下游产品信息
上游原料
下游产品
四氟化锗生产厂家
  • 公司名称：北京百灵威科技有限公司
  • 联系电话：010-82848833 400-666-7788
  • 电子邮件：jkinfo@jkchemical.com
  • 国家：中国
  • 产品数：94657
  • 优势度：76
  • 公司名称：北京华美互利生物化工
  • 联系电话：010-56205725
  • 电子邮件：waley188@sohu.com
  • 国家：中国
  • 产品数：12335
  • 优势度：58
  • 公司名称：上海众巍化学有限公司
  • 联系电话： 18824865657
  • 电子邮件：joey.lin@wechem.cn
  • 国家：中国
  • 产品数：507
  • 优势度：58
  • 公司名称：Hefei TNJ Chemical Industry Co.,Ltd.
  • 联系电话：+86-0551-65418671 +8618949823763
  • 电子邮件：sales@tnjchem.com
  • 国家：中国
  • 产品数：34563
  • 优势度：58
  • 公司名称：CD Chemical Group Limited
  • 联系电话： +8615986615575
  • 电子邮件：info@codchem.com
  • 国家：中国
  • 产品数：20342
  • 优势度：58
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