二氧化硅消光粉

二氧化硅消光粉消光机理：无消光剂的清漆膜为镜膜平整状态。当光到达镜膜表面时，部分入射光被吸收，部分被反射，部分反射使膜有光泽。含有二氧化硅消光剂的漆膜均匀分布在漆膜中，产生一种微粗糙的表面。从涂膜截面扫描电子显微镜照片可以清楚地看到，消光颗粒均匀分布在涂膜中。当入射光到达不均匀的漆膜表面时，会产生漫反射，即散射产生低光泽的亚光和消光外观。采用高孔隙率。良好的粒径分布和合适的二氧化硅消光剂表面处理可以获得良好的消光效果。

一种气相二氧化硅消光粉及其制备方案，具体步骤如下：

1、经过汽化器高温汽化后的四氯化硅气体在加热空气的介入下，连续输入二氧化硅反应器（1），加热氢气通过氢气入口连续输入二氧化硅反应器（1），氯硅烷在二氧化硅反应器（1）内的氢气、氧气燃烧的高温火焰中发生高温水解生成纳米二氧化硅，控制氯硅烷、氢气、氧气的反应比例，使氯硅烷（kg）：氢气（NM3）：氧气(NM3)为1:0.32:0.95；

2、反应生成的纳米二氧化硅进入聚集器（2）进行聚集，经过高温汽化后的处理剂三甲胺通过处理剂入口连续输入聚集器（2）前段，控制纳米二氧化硅、处理剂的质量比例，使纳米二氧化硅：处理剂为1：0.07；

3、经过高温汽化后的反应抑制剂乙二醇及氮气混合物通过抑制剂入口连续输入聚集器（2）末端，将处达到处理要求的纳米二氧化硅通过抑制剂中止反应进行，并在聚集器（2）内完成二氧化硅聚集，控制纳米二氧化硅、抑制剂的质量比例，使纳米二氧化硅：抑制剂为1：0.24；

4、聚集完成的二氧化硅连续输入后处理设备（3）脱除其副产物，使其4%甲醇溶液PH值达到6-8；

5、脱除副产物后的二氧化硅利用旋转给料阀连续输送至均料器（4），待均料器（4）内物料温度降低至室温时，通过旋转加料阀均匀输送至气流粉碎机（5），在气流粉碎机（5）内将二氧化硅粉碎，控制粉碎后的平均粒径D50，设定粉碎要求D50为5微米，测得其离散度为0.75；

6、经过粉碎后的二氧化硅被连续输送至缓冲罐（6），再通过旋转给料阀均匀输送至分级设备（7），对粒径为3.8微米以下及6.2微米以上的粒子进行分级去除，经过分级筛选后的二氧化硅经过出料口输送至料仓（8），包装后即得成品。