纳米二氧化硅

纳米二氧化硅化学性质

熔点 :>1600 °C(lit.)
沸点 :>100 °C(lit.)
密度 :2.2-2.6 g/mL at 25 °C
蒸气压 :13.3hPa at 1732℃
折射率 :1.46
闪点 :2230°C
储存条件 :2-8°C
溶解度 :Practically insoluble in water and in mineral acids except hydrofluoric acid. It dissolves in hot solutions of alkali hydroxides.
酸度系数(pKa) :6.65-9.8[at 20 ℃]
形态 :suspension
颜色 :White to yellow
比重 :2.2
PH值 :5-8 (100g/l, H2O, 20℃)(slurry)
气味 (Odor) :at 100.00?%. odorless
电阻率 (resistivity) :1∞10*20 (ρ/μΩ.cm)
水溶解性 :insoluble
敏感性 :Hygroscopic
水解敏感性 :6: forms irreversible hydrate
晶体结构 :Trigonal
Merck :14,8493
暴露限值 :NIOSH: IDLH 3000 mg/m3; TWA 6 mg/m3
稳定性 :Stable.
CAS 数据库 :7631-86-9(CAS DataBase Reference)
(IARC)致癌物分类 :3 (Vol. Sup 7, 68) 1997
NIST化学物质信息 :Silicon(iv) oxide(7631-86-9)
EPA化学物质信息 :Silica (7631-86-9)

安全信息

纳米二氧化硅 MSDS

Silica
纳米二氧化硅

化学性质纳米二氧化硅为无定型白色粉末，无毒、无味、无污染，一般表面存在羟基和吸附水，具有粒径小、纯度高、密度低、比表面积大、分散性能好的特点，以及优越的稳定性、补强性、触变性和优良的光学及机械性能。
特点纳米二氧化硅为具有颗粒尺寸小、微孔多、比表面积大、表面羟基含量高、紫外线、可见光及红外线反射能力强等特点。
应用粒径在1-100nm的纳米二氧化硅，它具有纳米材料的共同特点，即小尺寸效应、量子尺寸效应、表面效应、宏观量子效应等，在催化、吸附、分离、生物传感、纳米分子器件和其它功能材料等诸多方面显示了极大的应用前景。
制备方法气相法：气相法多以四氯化硅为原料，采用四氯化硅气体在氢氧气流高温下水解制得烟雾状的SiO2。激光激活化学气相沉积(ILCVD)也是气相法中制备纳米二氧化硅的有效方法。该法比较容易制备出晶态和非晶态纳米粒子，产物纯度高、分散度高、粒子细而且成球形，表面羟基少，因而具有优异的补强性能，且具有清洁、无壁效应、粒度分布均匀、无粘结、产量高、可连续生产及应用广泛等优点。

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