トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド

危険有害性情報のコード(GHS)

• 絵表示(GHS)

  

• 注意喚起語

  Danger

• 危険有害性情報

  H226：引火性の液体および蒸気

  H314：重篤な皮膚の薬傷?眼の損傷

• 注意書き

  P210：熱/火花/裸火/高温のもののような着火源から遠ざ けること。－禁煙。

  P233：容器を密閉しておくこと。

  P240：容器を接地すること/アースをとること。

  P280：保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。

  P303+P361+P353：皮膚（または髪）に付着した場合：直ちに汚染された衣 類をすべて脱ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。

  P305+P351+P338：眼に入った場合：水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。

トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド 価格

トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド 化学特性,用途語,生産方法

• Conductivity

  0.14 mS/cm (30 °C)

• 使用

  [P_6,6,6,14][Ntf₂] can be used in:
  
  • The electrodeposition of nano and microcrystalline metals for electrochemical applications.
  • The synthesis of amino acid ionic liquid functionalized graphene (AAIL-GR) applicable as a biosensor.
  • The investigation of interactions between ionic liquids and fluorinated alkanes.
  • The synthesis of pure rutile and anatase phases of nanocrystalline TiO₂.
  
  

• 一般的な説明

  Trihexyltetradecylphosphonium bis(trifluoromethylsulfonyl)amide [P_6,6,6,14][Ntf₂] is an ionic liquid generally used in biosensors electrodeposition, and synthetic chemistry applications.

トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド 上流と下流の製品情報

トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド 生産企業

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