碳化钽溅射靶
中文名称:碳化钽溅射靶
英文名称:Tantalum carbide sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.95% (metals basis)
CAS号:
分子式:
分子量:0
EINECS号:235-118-3
Mol文件:Mol File
