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碳化钽溅射靶

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碳化钽溅射靶
  • 中文名称:碳化钽溅射靶
  • 英文名称:Tantalum carbide sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.95% (metals basis)
  • CAS号:
  • 分子式:
  • 分子量:0
  • EINECS号:235-118-3
  • Mol文件:Mol File
  • 碳化钽溅射靶
"碳化钽溅射靶"相关产品信息