基本属性 用途与合成方法 上下游产品信息

溶致液晶高分子聚苯并[口恶]唑

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溶致液晶高分子聚苯并[口恶]唑
溶致液晶高分子聚苯并[口恶]唑 用途与合成方法
  • 化学性质 抗张强度1.55MPa,抗张模量90MPa,起始分解温度657.3℃。
  • 用途 用于液晶材料等。
  • 生产方法 单体的合成: 该单体是由4-羟基-3-氨基苯甲酸盐酸盐在多聚磷酸介质中进行缩聚反应,该单体是由对羟基苯甲酸甲酯(乙酯)为原料分两步反应,纯化而得。
    聚苯并[口恶]唑ABPBO的合成用薄膜和纤维的合成: 3-氨基-4-羟基苯甲酸的盐酸盐在引发剂的引发下进行聚合,脱去盐酸,再在五氯化磷存在下,在90-190℃反应得到的聚合物,将聚合物溶液进行推膜,在水溶液中凝聚得到取向的薄膜,或将聚合物溶液用干喷湿纺丝技术得到淡黄色的聚合物纤维,在水浴中洗涤,并在张力下进行干燥和热处理。
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