碲化锗新闻专题
碲化锗的主要应用
制备一种光刻用硫化物半导体掩膜，其特征在于所述的硫化物半导体掩膜的材料为碲化锗，锗锑碲，银铟锑碲，碲化锑或锑。本发明硫化物半导体掩膜材料由于材料的三阶非线性效应，能大大减小光斑或者刻蚀线宽，刻蚀点或刻蚀线宽是光斑衍射极限的1/3-1/6，比采用金属铟(In)(60%)的效果更明显，同时需要的激光功率也大大降低。
2020-10-20
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