碲化锗新闻专题
碲化锗的主要应用
制备一种光刻用硫化物半导体掩膜，其特征在于所述的硫化物半导体掩膜的材料为碲化锗，锗锑碲，银铟锑碲，碲化锑或锑。本发明硫化物半导体掩膜材料由于材料的三阶非线性效应，能大大减小光斑或者刻蚀线宽，刻蚀点或刻蚀线宽是光斑衍射极限的1/3-1/6，比采用金属铟(In)(60%)的效果更明显，同时需要的激光功率也大大降低。
2020-10-20
推荐新闻
戊烷溴化镁的制备与偶联反应
2025/02/12
4-氟-1,2-苯二甲酸的还原反应
2025/02/12
四水合乙酸钇(III)的合成应用
2025/02/12
溴化乙烯基三苯基膦的合成应用
2025/02/12
油酸酰胺丙基甜菜碱的合成研究
2025/02/12
丙二烯的合成与应用
2025/02/12
最新发布
柱层析硅胶的特性与使用方法
9:19
2-巯基-1,3,4-噻二唑的合成与应用
9:18
3-脲丙基三甲氧基硅烷的应用
9:14
硫酸钛的催化活性研究
9:12
磷酸苯丙哌林的一种合成方法
9:12