三甲基硅烷新闻专题

三甲基硅烷((CH3)3SiH)近年来作为半导体领域中的层间绝缘膜、作为成膜原料其用途扩大。 作为三甲基硅烷的制造法，通常为使用适当的氢化剂将三甲基氯硅烷((CH3)3SiCl)还原的方法。 例如，公开了使三甲基氯硅烷与氢化铝锂(LiAlH4)在二甲氧基乙烷(DME)的溶剂中反应从而合成的方法(非专利文献1)。此外，公开了作为氢化剂使用氢化锂(LiH)的方法(专利文献1)、使用二乙基氢化铝((C2H5)2AlH)的方法(专利文献2)。此外，公开了氢化剂使用氢化铝锂、溶剂使用芳香族烃系有机溶剂的方法(专利文献3)。

三甲基硅烷((CH3)3SiH)近年来作为半导体领域中的层间绝缘膜、作为成膜原料，其用途逐渐扩大。