六氯乙硅烷的理化性质与制备方法

六氯乙硅烷，英文名为1,1,1,2,2,2-Hexachlorodisilane，常温常压下为无色至浅黄色液体，具有极其强的吸湿性和较强的潮解性，它可与常见的非质子性有机溶剂例如乙醚，二氯甲烷等进行混溶。六氯乙硅烷是一种氯代硅烷类化合物，也是一种常见的半导体原料，在电子产品的研发和生产领域中有着较好的应用。

图1 六氯乙硅烷的性状图

理化性质

六氯乙硅烷是一种性能稳定、挥发 性低的湿度敏感型液体，在半导体行业中应用广泛,附加值高,是一种氯硅烷，该物质可用作生产乙硅烷的前体，它是一种用于生产硅膜和氮化硅基膜的脱氧剂。六氯乙硅烷可用于通过化学气相沉积（CVD）制备二氧化硅气凝胶，其有望用作封装剂和绝热体。该物质也可用于通过CVD合成1,1,1,2,2,2-六氨基乙硅烷，其可形成微电子应用的硅基薄膜。六氯乙硅烷也可用作还原剂。它可以通过化学气相沉积（CVD）技术与氨结合形成氮化硅。

制备方法

有研究报道了一种高纯六氯乙硅烷的制备方法，它是一种制备高纯度六氯乙硅烷的工艺，该方法采用山梨醇代替螯和树脂进行金属杂质的吸附，在提纯过程中加入氮气伴送成为惰性气体保护精馏，通入氮气的作用主要是降低蒸馏温度，加强塔釜内液体的搅拌防止釜内液体局部过热从而避免六氯乙硅烷受热变质。该方法的精馏效率高且工艺成本低。[1]

化学应用

六氯乙硅烷在多种高级薄膜淀积（半导体存储和逻辑芯片制造技术）工艺中发挥着至关重要的作用，即在低温工况下可替代硅烷或二氯甲硅烷应用于高品质氧化硅和氮化硅薄膜的积淀工艺中。六氯乙硅烷按纯度可以分为：高纯度级别和普通纯度级别。高纯度级别六氯乙硅烷的纯度>99%，作为化学气相淀积（CVD）、原子层沉积（ALD）的前体用于半导体领域，亦可作为前体用于太阳能领域，在光纤、航空航天领域也有应用。普通纯度级六氯乙硅烷的纯度在 95%-98%，主要用作工业生产或者提纯。

参考文献

[1] 黄娣,张小玲,龚瑞,等.一种制备高纯度六氯乙硅烷的工艺.CN202010438643.X.