四甲基氢氧化铵水溶液的用途

四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种强的有机碱。在国内TMAH主要用于有机硅系列产品合成中的催化剂，在国外则主要用于聚酯类聚合、纺织、塑料制品、皮革等领域。电子级四甲基氢氧化铵是一种四甲基氢氧化铵和水的混合液，外观为无色透明溶液，在电子行业中，主要用作印刷电路板的光刻显影剂、硅晶片蚀刻剂以及微电子芯片制造中的清洗剂等。

显影液

显影液是溶解由曝光造成的光刻胶的可溶解区域的一种化学溶剂。对于正显影工艺，显影液是一种用水稀释的强碱溶液，例如早期使用的是氢氧化钾与水的混合物。对于负显影工艺，显影液通常是一种有机溶剂，如二甲苯。最普通的现今被广泛使用于光刻工艺中的显影液是四甲基氢氧化铵（TMAH）。I-线、248nm、193nm、193nm浸没式或是EUV工艺，都可以使用四甲基氢氧化铵水溶液做显影液。在使用过程中，TMAH水溶液（1W％）解离而成的OH-易与Si发生反应，使得特定区域的Si基侵蚀溶解，进而实现其显影功能。

清洗液

长期以来，氢氧化钾（KOH）溶液因其对大多数有机物的良好溶解性，被广泛应用于掩膜版的初步清洗中。KOH溶液通过其强碱性环境，能够有效地分解和去除掩膜版表面的有机污染物。然而，该方法在面对油污类污染时显得力不从心，需要反复清洗，不仅增加了清洗成本，还可能对掩膜版造成机械损伤，如表面粗糙度增加、图形边缘模糊等。

为克服KOH溶液的局限性，业界开始探索更为高效、温和的清洗方案，其中，四甲基氢氧化铵（TMAH）溶液以其优异的溶解能力和较低的腐蚀性脱颖而出。TMAH溶液对油污类污染表现出卓越的清洗效果，能够更彻底地清除掩膜版表面的顽固污渍，同时减少对掩膜版的物理损伤。然而，高昂的成本是其推广应用的一大障碍。因此，如何在保证清洗效果的同时降低成本，成为当前研究的热点之一。