网站主页 四甲基氢氧化铵 新闻专题 有机硅催化剂--四甲基氢氧化铵(TMAH)

有机硅催化剂--四甲基氢氧化铵(TMAH)

发布日期:2022/10/31 13:56:09

名称:四甲基氢氧化铵(TMAH),英文名称为Tetramethylammonium hydroxide

性能:本产品为有机硅聚合中的催化剂

优点:它具有强碱性,在不超过分解点的温度下稳定。超过分解点时迅速分解为三甲胺和甲醇。当催化完毕后很容易除掉,不留任何残渣。对有机硅产品无污染。因此又称为“暂时催化剂”。

应用:四甲基氢氧化铵,分子式为C4H13NO,有一定的氨气味,具有强碱性,在有机硅方面,作为二甲基硅油,苯甲基硅油,有机硅扩散泵油,无溶剂有硅模塑料,有机硅树脂硅橡胶等的催化剂。在有机硅片生产中常用作计算机硅片面用光亮剂、清洗剂和触刻剂等。

TMAH的用途

1、作为集成电路(IC)行业、液晶显示器行业(TFT-LCD)、光电子(LED)行业的显影液。

TMAH是一种有机碱,一方面它和无机碱一样具有强碱性,另一方面它具有其独特的特性,即在使用过程中不会留下金属离子,加热后可以分解成三甲胺气体和甲醇气体且不留任何痕迹,可广泛应用于现代电子行业。显影液的主要成分是碱,原来使用的碱是无机碱KOH,随着科技的进步,集成电路的设计制造需满足各种复杂的工艺条件,对化学品杂质要求越来越苛刻。之前用的显影液是KOH等无机碱,显影后需要用大量的水进行冲洗基板,最终还不能保证K+ 能够彻底冲洗干净。金属离子的过度残留就无法满足一些苛刻的工艺条件,如单个制造单元中电子元器件的数量越来越多,线宽越来越窄,成为制约电子行业发展的一个不容忽视的瓶颈,而TMAH正好克服了KOH的缺点,无金属离子,高温分解无残留。

因此TMAH是目前使用最普遍且性能的显影液。已取代无机碱(KOH、NAOH)广泛用于集成电路(IC)行业、液晶显示器行业(TFT-LCD)、光电子行业。

2、清洗剂:PCB等电子行业清洗剂,TMAH具有良好的清洗效果且无残留。

3、工业用催化剂(相转移催化剂,可以帮助反应物从一相转移到能够发生反应的另一相当中,从而加快异相系统反应速率的一类催化剂。一般存在相转移催化的反应,都存在水溶液和有机溶剂两相,离子型反应物往往可溶于水相,不溶于有机相,而有机底物则可溶于有机溶剂之中。不存在相转移催化剂时,两相相互隔离,几个反应物无法接触,反应进行得很慢。相转移催化剂的存在,可以与水相中的离子所结合,并利用自身对有机溶剂的亲和性,将水相中的反应物转移到有机相中,促使反应发生)。

TMAH作为季铵碱,在有机硅、橡胶防老剂领域是一种高效催化剂。

TMAH在TFT-LCD行业的使用原理

• 显影液分类:正胶显影液、负胶显影液

• 显影原理:用浓度为2.38%的显影液水溶液溶解曝光后的光刻胶 ,使曝光过的光刻胶在比较短的时间内迅速且彻底溶解,留下反差图形

TMAH在TFT-LCD行业的使用原理

分享 免责申明

四甲基氢氧化铵生产厂家及价格列表

原材料 四甲基氢氧化铵 75-59-2 催化剂无色结晶 原材料

¥20

武汉吉业升化工有限公司

2024/12/04

四甲基氢氧化铵

¥询价

武汉裕清嘉衡药业有限公司

2024/12/04

四甲基氢氧化铵

¥询价

武汉裕清嘉衡药业有限公司

2024/12/04