トリス(トリメチルシリル)ホスフィン

危険有害性情報のコード(GHS)

• 絵表示(GHS)

  

• 注意喚起語

  Danger

• 危険有害性情報

  H250：空気に触れると自然発火

  H261：水に触れると可燃性/引火性ガスを発生

  H315：皮膚刺激

  H319：強い眼刺激

  H335：呼吸器への刺激のおそれ

• 注意書き

  P210：熱/火花/裸火/高温のもののような着火源から遠ざ けること。－禁煙。

  P231+P232：湿気を遮断し、不活性ガス下で取り扱うこと。

  P280：保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。

  P302+P334：皮膚に付着した場合：冷たい水に浸すこと/湿った 包帯で覆うこと。

  P370+P378：火災の場合：消火に．．．を使用すること。

  P422：内容物を．．．中で保管すること。

トリス(トリメチルシリル)ホスフィン 価格

トリス(トリメチルシリル)ホスフィン 化学特性,用途語,生産方法

• 外観

  無色～ほとんど無色透明液体

• 化学的特性

  Colorless to light yellow liqui

• 物理的性質

  mp 24 °C; bp 243–244 °C; d 0.863 g cm3; n20 D 1.501–1.503.

• 使用

  Tris(trimethylsilyl)phosphine is a more stable analog of phosphine, but retains high reactivity due to the presence of the weak polar Si–P bond. It is nucleophilic and readily reacts with a range of electrophiles. Reaction with alkylating agents provides substituted phosphines, with acid chlorides phosphaalkenes can be obtained, and phosphabenzenes can be synthesized upon reaction with pyrylium salts. It can be used as user-friendly phosphorus source and alternative to phosphine gas, precursor of (Me3Si)2PLi, covalent synthon for the anion P3).

• 製造方法

  several preparative methods are known. These include the following: reaction of alkali metal phosphides (NaPH2, KPH2, Li3P, usually prepared by reaction of metal and phosphine gas or via metal alkyl derivative) with chlorotrimethylsilane or fluorotrimethylsilane in 1,2-dimethoxyethane or diethyl ether; reaction of sodium–potassium alloy with white or red phosphorus in refluxing 1,2- dimethoxyethane for 24 h followed by addition of chlorotrimethylsilane and heating at reflux for 72 h (good stirring is necessary for high yield of product), evaporation of the solvent, and vacuum distillation (75% yield); reaction of piperidinodichlorophosphine with lithium powder and chlorotrimethylsilane in refluxing tetrahydrofuran (71% yield); reaction of phosphine with excess of trimethylsilyl triflate in the presence of a tertiary amine in an inert solvent (Et2O) at low temperature (90% yield); reaction of phosphorus trichloride, magnesium, and chlorotrimethylsilane (62% yield). The last method is considered to be the most cost effective and also the safest approach.

• 合成

  Tris(trimethylsilyl)phosphine is prepared by treating trimethylsilyl chloride, white phosphorus, and sodium-potassium alloy: 1/4 P4 + 3 Me3SiCl+ 3 K → P(SiMe3)3 + 3 KCl

トリス(トリメチルシリル)ホスフィン 生産企業

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トリス(トリメチルシリル)ホスフィン スペクトルデータ(¹HNMR、FT-IR、Raman)

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