窒化ハフニウム

危険有害性情報のコード(GHS)

• 絵表示(GHS)

  

• 注意喚起語

  Warning

• 危険有害性情報

  H315：皮膚刺激

  H319：強い眼刺激

  H335：呼吸器への刺激のおそれ

• 注意書き

  P264：取扱い後は皮膚をよく洗うこと。

  P264：取扱い後は手や顔をよく洗うこと。

  P280：保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。

  P302+P352：皮膚に付着した場合：多量の水と石鹸で洗うこと。

  P305+P351+P338：眼に入った場合：水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。

  P321：特別な処置が必要である（このラベルの．．． を見よ）。

  P332+P313：皮膚刺激が生じた場合：医師の診断/手当てを受けるこ と。

  P362：汚染された衣類を脱ぎ、再使用す場合には洗濯をすること。

窒化ハフニウム 化学特性,用途語,生産方法

• 化学的特性

  Hafnium nitride (HfN) is formed as yellow-brown, cubic crystals and is prepared by heating hafnium metal to 1000–1500 C in an atmosphere of nitrogen or ammonia. It can also be prepared by reacting hafnium tetrachloride vapor with nitrogen in a hydrogen atmosphere at temperatures higher than 1000 C.
  
  Hafnium nitride is a brittle solid. The deposition of a thin layer of hafnium nitride on steel grade, cemented carbide, cutting tools reduces frictional forces and wear, thus increasing the life of the tool by a factor of 6–8.

• 使用

  Hafnium nitride exhibits outstanding mechanical, electrical, optical, high-temperature resistance, and corrosion resistance properties, making it highly valuable in fields such as mechanical manufacturing and microelectronics.
  Nano-sized hafnium nitride finds widespread applications in the semiconductor, optoelectronics, and precision machining industries. In particular, nano-HfN thin films show great potential as high-efficiency anti-reflective protective coatings for optical windows, especially for critical optical components in aerospace systems.

• 製造方法

  Hafnium nitride can be produced either through the direct reaction of hafnium with nitrogen at 900°C, or via the reaction of hafnium halides with ammonia or a nitrogen-hydrogen gas mixture.

窒化ハフニウム 上流と下流の製品情報

窒化ハフニウム 生産企業

Global(57)Suppliers

25817-87-2, 窒化ハフニウム キーワード