テトラアセトキシシラン

危険有害性情報のコード(GHS)

• 絵表示(GHS)

  

• 注意喚起語

  Danger

• 危険有害性情報

  H314：重篤な皮膚の薬傷?眼の損傷

• 注意書き

  P260：粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーを吸入しないこ と。

  P280：保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。

  P303+P361+P353：皮膚（または髪）に付着した場合：直ちに汚染された衣 類をすべて脱ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。

  P305+P351+P338：眼に入った場合：水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。

  P363：汚染された衣類を再使用す場合には洗濯をすること。

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テトラアセトキシシラン 化学特性,用途語,生産方法

• 化学的特性

  Off-white crystalline solid

• 使用

  Silicon tetraacetate is used in the preparation of silicon dioxide thin films by a direct photochemical vapor deposition method. It serves as a precursor to prepare silicon complexes with monofunctional bidentate Schiff bases. It is also used as an alternative to silicon hydride and alkoxide for low-temperature silicon dioxide production. Further, it reacts with ethanol in the absence of water to get silica gel and ethyl acetate. In addition, it is employed as a sol-gel precursor.

• 一般的な説明

  Silicon tetraacetate is an alternative to silicon hydride and alkoxide for low-temperature SiO₂ production. Silicon tetraacetate reacts with ethanol in absence of water to form silica gel and ethyl acetate. Silicon tetraacetate is reported as a sol-gel precursor.

• 純化方法

  It can be crystallised from mixtures of CCl4 and pet ether or Et2O, or from acetic anhydride and then dried in a vacuum desiccator over KOH. Ac2O adheres to the crystals and is removed first by drying at room temperature, then at 100o for several hours. It is soluble in Me2CO, is very hygroscopic and effervesces with H2O. It decomposes at 160-170o. [Schenk in Handbook of Preparative Inorganic Chemistry (Ed. Brauer) Academic Press Vol I p 701 1963, Beilstein 2 H 171.]

テトラアセトキシシラン 生産企業

Global(150)Suppliers

テトラアセトキシシラン スペクトルデータ(¹HNMR、IR、Raman)

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