三甲基镓

简介用途应用制备

三甲基镓

CAS号:1445-79-0
英文名:TRIMETHYLGALLIUM
中文名:三甲基镓
CBNumber:CB0288811
分子式:C3H9Ga
分子量:114.83
MOL File:1445-79-0.mol

三甲基镓化学性质

熔点 :-15,8°C
沸点 :55,7°C
密度 :1,151 g/cm³
闪点 :-18°C
形态 :liquid
颜色 :colorless
比重 :1.1151
水解敏感性 :10: reacts extremely rapidly with moisture and oxygen - may be pyrophoric - sealed system required
敏感性 :moisture sensitive
InChIKey :XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N
EPA化学物质信息 :Trimethylgallium (1445-79-0)

安全信息

危险品标志 :F,C
危险类别码 :14-17-34-35-14/15
安全说明 :7-16-43-45-36/37/39-26-8-6
危险品运输编号 :2845
WGK Germany :3
危险等级 :4.2
包装类别 :I

三甲基镓性质、用途与生产工艺

简介
三甲基镓在常温常压下为无色透明有毒液体。在空气中易氧化，在室温自燃，燃烧时发出金属氧化物白烟。高温时自行分解。它在已烷、庚烷等脂肪族饱和烃和甲苯、二甲苯等芳香族烃中以任何比例相溶。与水激烈反应生成Me2GaOH和[(Me2Ga)2O]X，并放出甲烷气。
用途三甲基镓可用于金属有机化学气相沉积(MOCVD)，制备GaAs、AsGaAl等半导体化合物等，是制造发光二极管等电子元件的镓源，也用于太阳能电池的制造。
应用三甲基镓（Ga(CH3)3，TMG）是 MOCVD 工艺技术生产光电材料如氮化镓等的关键 MO 源原料，为MO 源化合物中应用最广泛的金属有机化合物。MO 源，即金属有机化合物，是光电半导体材料行业等领域的重要金属来源，是 MOCVD 工艺（即金属有机化学气相沉积工艺）等工艺技术生产制备合成新型半导体光电化合物材料的基础源材料。
制备
镓镁合金卤代烷法：

该工艺方法也被称为合金法，并且目前国内投入实际工业化生产的工艺过程主要采用此合成制备方法。该工艺方法的制备合成步骤为：在充满氩气等惰性气的合成釜反应器中，一次性地投入高纯镓镁合金和醚类溶剂如二甲醚、乙醚、四氢呋喃或甲基四氢呋喃等溶剂。在反应釜设备缓慢搅拌的前提条件下逐渐滴入添加卤代烷原料如溴甲烷或碘甲烷，同时严格控制卤代烷的滴入添加速度及惰性溶剂的回流速度。待卤代烷原料添加完成并且合成反应完成后，将醚类辅助溶剂进行蒸发回收，进而使用减压蒸馏等分离方法得到三甲基镓与醚类溶剂的化学配合物，最后将所获得的配合产物解配获得三甲基镓的制成品。
生产方法
由碘化甲基镁与三氯化镓反应生成三甲基镓醚络合物，络合物解离生成三甲基镓。将粗制三甲基镓醚络合物蒸馏、分离、精馏、提纯即可。或用三甲基铝与三氯化镓反应可生成三甲基镓和(CH3）2A1C12.经蒸馏、加ＫＦ，再用物化方法提纯可得99.999%产品。