三氟化氮

      三氟化氮（NF3）主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。

三氟化氮（NF3）的主要应用
      IC方面：由于作为半导体工业中气体清洗剂的全氟烃(PFC)对环境有害,近年来有逐渐被三氟化氮(NF3)取代之势。了解更多电子特气请关注微信gasgroup使用NF3作为化学蒸气沉积(CVD)箱清洗剂,与全氟烃相比,可减少污染物排放量约90%,且可显著提高清洗速度,从而可提高清洗设备能力约30%。

LCD方面：NF3还可用作蚀刻剂,也用于液晶显示器(LCD)的加工。为此,近年来NF3需求量急剧增长,90年代中期全球年用量不到46t, 2013年为5100吨。为满足日益增长的需求,世界各生产商均在积极扩大生产能力,预计每年将继续增长约15%。但是三氟化氮(NF3)的GWP值高达10 800,今后的发展可能会为此受到一定的限制。

太阳能电池：NF3作为蚀刻和清洗气体也在太阳能电池制造行业广泛应用。